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図面プロセスの出版物

(斜体は生徒の名前)

フリーマン、T.E. & ロシュキー, L.C. (2011). 描画には低空間周波数と高空間周波数が最も役立ちます. 美学の心理学, 創造性, そして芸術, 5(3), 269-278.